● 標配的石英腔體（也可選配金屬腔體）方便觀察（圖1）
● 相比傳統(tǒng)濺射儀，體積小巧，拆裝方便（圖2）
● 模塊化設計，靶頭，電源等多種可選，自由DIY（圖3）
● 基臺可旋轉可加熱
● 可濺射金屬和氧化物。實驗室已初步制備了 氧化鋅、碲化鉍、ITO、ATO、AU、Ag、Cu、Al、Mg、Sc等薄膜。

                  圖1                             圖2                               圖3

● 輸入電源：220V AC50/60Hz
● 設備功率：<1500W
● 靶臺加熱溫度：500℃
● 樣品臺轉速：0-10r/min
● 靶頭可調傾角：0-25度
● 濺射腔體尺寸：278mm OD x 272mm ID x310mm H。
● 靶材尺寸要求：1英寸磁控濺射靶頭Φ25.4mm ×（0.1-3）mm(厚度）
                           2英寸磁控濺射靶頭Φ50mm ×（0.1-3）mm(厚度)
● 最高使用功率：1英寸磁控濺射靶頭100W
                           2英寸磁控濺射靶頭300W

● 設備配備三個直流射頻通用靶頭，1英寸2英寸尺寸可選。
● 儀器中安裝有直徑為50mm的不銹鋼可旋轉樣品臺，最高加熱溫度是500℃（圖1）
● 配有300W自動匹配射頻電源和500W的直流濺射電源（可自由選擇）（圖2）
● 設備上配1/4英寸進氣口方便連接氣瓶（圖3）
● 配有靶頭電動升降臺（圖4）
● 配有高純石英密封罩（圖5）

            圖1                         圖2                              圖3                                 圖4                      圖5

700mm L x 770 mm W x 1900 mm H

CE認證