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HVHP-50 2英寸高真空加熱臺(tái)

應(yīng)用范圍：HVHP-50是一款高真空的加熱臺(tái)，其直徑為2英寸（50.8mm）.此產(chǎn)品設(shè)置主要是用作為加熱樣品臺(tái)，可選擇最高溫度為800℃或1000℃。用于DIY各種濺射儀或蒸鍍設(shè)備等等。

產(chǎn)品型號(hào) ：HVHP-50

上架時(shí)間：2019-09-02

重量：1kg

A^-A⁺

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HVHP-50是一款高真空的加熱臺(tái)，其直徑為2英寸（50.8mm）.此產(chǎn)品設(shè)置主要是用作為加熱樣品臺(tái)，可選擇最高溫度為800℃或1000℃。用于DIY各種濺射儀或蒸鍍設(shè)備等等。

性能指標(biāo)和基本配置
加熱元件 & 輸入功率	● 可選購2種加熱元件 ● FeCrAl 合金絲: 最高溫度800oC ，功率400W ● 鉬絲:最高溫度1000oC ，功率 800W ( 必須在真空或惰性氣體保護(hù)環(huán)境下使用，不適用于CVD/ALD等相關(guān)應(yīng)用中) ● 輸入電壓: 0 - 35 VAC ，50/60Hz
加熱臺(tái)	● 儲(chǔ)存：78 mm OD x 85 mm H + .支撐桿 ( Φ10 mm x 62 mm L ) ● 加熱均勻區(qū)：Φ51 mm （+/- 5oC） ● 加熱速率: 5oC/min ● 熱電偶: K 型
溫控器	● 可選購SCR溫度控制器 ● 30 段升降溫程序 ● PID 方式調(diào)節(jié)溫度 ● 控溫精度：+/-1℃
尺寸
重量	1kg
應(yīng)用	可用與DIY各種設(shè)備，如下圖蒸鍍儀冷壁CVD CSS爐磁控濺射儀 ALD系統(tǒng)
使用注意事項(xiàng)	選用鉬絲作為加熱元件時(shí)，必須在真空或惰性氣體保護(hù)環(huán)境下使用，不適用于CVD/ALD等相關(guān)實(shí)驗(yàn)中，以免反應(yīng)氣體損壞鉬絲
保修期	一年保修，終身技術(shù)支持。點(diǎn)擊查看售后服務(wù)承諾書。

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